流體質(zhì)點(diǎn)通過(guò)裝置時(shí)，其停留時(shí)間長(cháng)短的分布情況。有些質(zhì)點(diǎn)迅速流出，有些質(zhì)點(diǎn)則可能在裝置內滯留較長(cháng)時(shí)間。流體在反應器內滯留將會(huì )嚴重影響反應的終結果。
停留時(shí)間分布的實(shí)驗測定方法：
通常使用示蹤法，即向一穩定流動(dòng)的系統中輸入示蹤劑，在出口處檢測流出物料中示蹤劑含量的變化，從而定出物料的停留時(shí)間分布。所用示蹤劑應不起化學(xué)變化，不會(huì )被器壁或器內填充物所吸附并易于檢測，如電解質(zhì)、染料等。輸入示蹤劑要不影響裝置內原來(lái)的流動(dòng)狀況。示蹤剤的輸入方式有脈沖式、階躍式和周期交變式，對應于前兩種方式的方法較為常用。
TCM3示蹤劑停留時(shí)間及濃度分布測量?jì)x是一種多通道的用于在線(xiàn)測量液流中示蹤劑濃度分布的儀器。其測量方法是利用插入反應器內的測量探針，通過(guò)探針前端的光電器件，將液體的透光率轉換為相應電信號。結合儀器處理軟件，得到反應器內流體中示蹤劑的停留時(shí)間及濃度分布。
